非常抱歉，您还未开通支付认
证，请先进行支付认证。
祝您购物愉快！
出售日本ULVAC（有乐）2024年生产的全新uGmni-200E干法刻蚀系统。该设备为通用型多工艺平台，支持刻蚀、去胶、CVD及溅射等多种模块配置，适用于GaAs、SiC等化合物半导体及MEMS器件制造。采用新型离子源技术，具备大排气量腔体构造，性能卓越。整机成色极佳，现货供应，适合高端半导体产线升级或新建项目使用。
